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現在の最先端半導体製造において、不可欠かつ高コストな「EUV露光装置」。
その常識を覆す日本の新技術「ナノインプリント」について解説します。
キヤノンと大日本印刷（DNP）がタッグを組み開発したこの技術は、
従来の光で焼き付ける方式とは全く異なる「ハンコ」のような製造方式。
消費電力は1/10、装置価格も大幅ダウンという圧倒的なメリットを秘めています。
2027年の量産化に向けた課題と、日本の半導体産業復活へのシナリオとは？
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