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生成AIの進化を支えているのは、NVIDIAなどの半導体設計企業だけではありません。
微細な回路を形成するためには、高品質なシリコンウエハーやフォトレジストなど、極めて高度な半導体材料が必要です。
信越化学は、シリコンウエハーをはじめ、フォトレジスト、フォトマスクブランクス、成膜用ガスなど、AI半導体の製造工程を幅広く支えています。さらに、群馬県伊勢崎市で半導体リソグラフィー材料の新拠点を整備し、第1期に約830億円を投じる計画です。
一方のJSRは、最先端半導体に欠かせないEUVフォトレジストを強化。子会社Inpriaの金属酸化物レジストや、次世代のドライレジスト技術にも力を入れています。
日本企業の「素材力」が、次世代AI半導体の性能と量産を左右する理由を60秒で解説します。
※本動画は情報提供を目的としており、特定銘柄への投資を推奨するものではありません。
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